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最新消息6月10日消息 界面新闻报道，近期，上海微电子装备(集团)股份有限公司披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。国产光刻机将从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。

最新消息了解到，上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。

目前上海微电子光刻机产品包括IC前道制造SSX600系列光刻机；IC后道先进封装SSB500系列光刻机； LED、MEMS、Power Devices制造SSB300系列光刻机； TFT曝光SSB200系列光刻机。

其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。